Substrats

Substrats

Matériaux avancés pour applications électroniques et industrielles de haute précision

Les substrats sont des matériaux de base spécialisés utilisés pour supporter, connecter et intégrer des composants électroniques, mécaniques et fonctionnels dans les systèmes industriels avancés. Ils constituent la plateforme fondamentale sur laquelle sont construits les structures conductrices, les circuits, les capteurs, les revêtements et les assemblages multicouches.

Les substrats haute performance sont conçus pour offrir une excellente stabilité dimensionnelle, une résistance thermique et chimique optimale, ainsi qu'une grande fiabilité électrique, même dans des conditions de fonctionnement exigeantes. Selon l'application, ils peuvent prendre en charge des technologies telles que la structuration laser, la lithographie, la galvanoplastie, le câblage, les procédés de revêtement et la fabrication de semi-conducteurs.

Les matériaux de substrat modernes sont largement utilisés en électronique, dans les semi-conducteurs, les MEMS, les systèmes de capteurs, les salles blanches, les interposeurs et la fabrication industrielle de pointe. Leur capacité à permettre des conceptions compactes, des architectures flexibles, un façonnage de haute précision et des performances fiables à long terme les rend essentiels pour les applications électroniques et microsystèmes de nouvelle génération.

Grâce à leur compatibilité avec les procédés de fabrication avancés et les conceptions de systèmes multicouches, les matériaux de substrat jouent un rôle essentiel dans le développement de technologies légères, efficaces et performantes pour l'industrie moderne.

Produits de substrat

1 : PEEK LDS Noir

Substrat de film avancé pour applications de structuration directe laser

PEEK LDS Black est un substrat de film avancé développé pour les applications de structuration laser directe (LDS), offrant une solution précise et flexible pour les microsystèmes et les structures électroniques complexes. Ce matériau élargit les possibilités de conception pour la production de substrats haute performance dans des environnements industriels exigeants.

Le substrat permet une structuration de haute précision et prend en charge les interconnexions verticales directes (VIA), offrant ainsi une plus grande flexibilité de conception et des fonctionnalités améliorées au sein de circuits électroniques compacts. Il combine une excellente qualité de surface, des performances thermiques et une résistance chimique remarquables, ce qui le rend idéal pour les applications de fabrication avancées exigeant fiabilité et stabilité dimensionnelle.

Conçu pour une fabrication en continu efficace, le substrat permet une production rapide et économique de structures flexibles. En réduisant le besoin de couches d'isolation supplémentaires et en minimisant la complexité du processus, ce matériau permet une fabrication plus économe en ressources que les méthodes de fabrication de substrats conventionnelles. Sa compatibilité avec les techniques de traitement avancées contribue également à optimiser l'efficacité de la production et à réduire les coûts de fabrication.

Le substrat favorise une fabrication respectueuse de l'environnement grâce à des méthodes de structuration simplifiées et aux propriétés recyclables des matériaux utilisés. Il est particulièrement adapté aux systèmes multicouches, aux interposeurs à structures profondes, aux applications d'antennes embouties en profondeur et aux couches intégrées sur des systèmes à substrat additionnel.

Faits

  • Désignation chimique
    PEEK (Polyétheréthercétone)

  • Couleur
    noire

  • Densité
    1,67 g/cm³

Caractéristiques principales

  • Lithographie capable

  • Capacité PVD/CVD

  • Liaison par fil possible

  • Galvanoplastie possible

  • Convient aux procédés de structuration directe par laser

  • Soudage par refusion possible

  • retardateur de flamme intrinsèque

  • faible absorption d'humidité

Secteurs cibles

  • technologie MEMS

  • technologie des capteurs

  • Technologie des semi-conducteurs

  • Électronique

  • Technologie d'interposition

  • Technologie des salles blanches

2 : PEEK LDS Gris

Substrat de film avancé pour applications de structuration directe laser

Le PEEK LDS gris est un substrat de film LDS avancé, conçu pour les applications industrielles flexibles et de haute précision exigeant des structures complexes, une fiabilité à toute épreuve et une grande flexibilité de conception. Cette variante grise offre les mêmes performances fondamentales que les substrats de film LDS haute performance, tout en élargissant le choix des matériaux pour des applications techniques spécialisées.

Le substrat offre une excellente stabilité thermique, une forte résistance chimique et une qualité de surface élevée, ce qui le rend adapté aux environnements de fabrication exigeants et aux applications électroniques de précision. Sa formulation est biocompatible, ce qui le rend idéal pour les applications nécessitant une compatibilité avec les environnements médicaux et de santé.

Conçu comme une alternative économe en ressources aux technologies de substrats de films conventionnelles, ce matériau permet des processus de fabrication efficaces et durables tout en maintenant une excellente stabilité dimensionnelle et des performances à long terme dans des conditions de fonctionnement difficiles.

Le substrat est compatible avec les technologies de traitement et de structuration avancées, permettant une production précise de systèmes multicouches, d'assemblages électroniques, de capteurs et d'autres composants industriels haute performance.

Faits

  • Désignation chimique
    PEEK (Polyétheréthercétone)

  • Couleur
    grise

  • Densité
    1,65 g/cm³

Caractéristiques principales

  • Lithographie capable

  • Capacité PVD/CVD

  • Liaison par fil possible

  • Galvanoplastie possible

  • Convient aux procédés de structuration directe par laser

  • Soudage par refusion possible

  • retardateur de flamme intrinsèque

  • faible absorption d'humidité

  • Formulation biocompatible

Secteurs cibles

  • technologie MEMS

  • technologie des capteurs

  • Technologie des semi-conducteurs

  • Électronique

  • Technologie d'interposition

  • Technologie des salles blanches

  • technologie médicale

3 : PEEK LDS Noir

Substrat de plaquette avancé à base de PEEK pour applications microsystèmes

Le substrat PEEK LDS Black de 4 pouces est un matériau PEEK haute performance de pointe, conçu comme une alternative aux substrats conventionnels utilisés dans les microsystèmes, l'électronique et les capteurs. Ce substrat combine d'excellentes propriétés thermiques, électriques et mécaniques, le rendant idéal pour les applications industrielles et d'ingénierie de précision les plus exigeantes.

Grâce à sa faible conductivité thermique, ce substrat est parfaitement adapté aux applications de détection de température, aux éléments chauffants et aux systèmes de gestion thermique. Sa grande élasticité le rend également idéal pour les applications exigeant une sensibilité à la pression et une flexibilité mécanique.

Le substrat présente une excellente résistance aux environnements agressifs ainsi qu'une rigidité diélectrique élevée, garantissant un fonctionnement fiable même dans des conditions difficiles. Des options de traitement flexibles, telles que la découpe laser, le fraisage et le perçage, permettent une adaptation aisée aux exigences spécifiques des applications et aux géométries de composants personnalisées.

Ce matériau optimise les flux de production en réduisant le besoin de couches d'isolation supplémentaires. Compatible avec les procédés de lithographie et de revêtement PVD conventionnels, il permet une production efficace de microsystèmes avancés et de structures électroniques de précision. Ses caractéristiques de recyclage et la simplification de sa mise en œuvre contribuent à une fabrication plus économe en ressources.

Le substrat présente une excellente qualité de surface, avec une rugosité comprise entre 20 et 50 nm et la possibilité d'obtenir des finitions ultra-fines inférieures à 10 nm grâce à des procédés de fabrication spécialisés. Sa planéité varie de 50 à 100 µm sur un diamètre de 100 mm, tandis que les épaisseurs disponibles s'échelonnent de 0,9 mm à 1,5 mm. Résistant à des températures jusqu'à 250 °C et présentant une rigidité diélectrique de 17,5 kV/mm, ce substrat est particulièrement adapté aux technologies de détection, aux applications haute fréquence et à l'intégration de microsystèmes avancés.

Faits

  • Désignation chimique
    PEEK (Polyétheréthercétone)

  • Couleur
    noire

  • Densité
    1,67 g/cm³

Caractéristiques principales

  • Lithographie capable

  • Capacité PVD/CVD

  • Liaison par fil possible

  • Galvanoplastie possible

  • Convient aux procédés de structuration directe par laser

  • Soudage par refusion possible

  • retardateur de flamme intrinsèque

  • faible absorption d'humidité

  • haute rigidité diélectrique

  • Faible conductivité thermique

  • Excellente qualité de surface

  • haute résistance chimique

Secteurs cibles

  • Technologie des semi-conducteurs

  • technologie MEMS

  • technologie des capteurs

  • Électronique

  • Technologie d'interposition

  • Technologie des salles blanches

4 : PEEK LDS Gris

Substrat de plaquette avancé à base de PEEK pour applications microsystèmes

Le PEEK LDS Grey est un substrat de plaquette de pointe conçu pour les microsystèmes, l'électronique et les technologies de capteurs. Il offre les mêmes performances élevées que les substrats PEEK de dernière génération, tout en élargissant la flexibilité de conception grâce à sa version grise. Ce substrat répond aux exigences des applications industrielles les plus pointues, nécessitant précision, stabilité thermique et fiabilité à long terme.

Ce matériau combine d'excellentes propriétés thermiques, électriques et mécaniques, ce qui le rend idéal pour les microsystèmes complexes, les plateformes de capteurs, les environnements semi-conducteurs et les applications électroniques de précision. Sa formulation biocompatible le rend également adapté aux applications exigeant une compatibilité avec les environnements médicaux et de santé.

Le substrat offre une excellente qualité de surface, une forte résistance chimique, une faible absorption d'humidité et des performances stables même dans des conditions d'utilisation difficiles. Sa compatibilité avec les procédés de fabrication et de structuration avancés permet une production efficace de composants de précision, de systèmes multicouches et d'assemblages électroniques hautement fonctionnels.

Son profil de matériau haute performance favorise la flexibilité de conception, l'intégration fonctionnelle et la personnalisation pour les applications microsystèmes complexes et industrielles.

Faits

  • Désignation chimique
    PEEK (Polyétheréthercétone)

  • Couleur
    grise

  • Densité
    1,65 g/cm³

Caractéristiques principales

  • Lithographie capable

  • Capacité PVD/CVD

  • Liaison par fil possible

  • Galvanoplastie possible

  • Convient aux procédés de structuration directe par laser

  • Soudage par refusion possible

  • retardateur de flamme intrinsèque

  • faible absorption d'humidité

  • Formulation biocompatible

Secteurs cibles

  • technologie MEMS

  • technologie des capteurs

  • Technologie des semi-conducteurs

  • Électronique

  • Technologie d'interposition

  • Technologie des salles blanches

  • technologie médicale

Façade Creations Plastiques : Substrats

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