Substratos
Materiais avançados para aplicações eletrônicas e industriais de alta precisão
Os substratos são materiais de base especializados usados para suportar, conectar e integrar componentes eletrônicos, mecânicos e funcionais em sistemas industriais avançados. Eles servem como plataforma fundamental sobre a qual são construídas estruturas condutoras, circuitos, sensores, revestimentos e conjuntos multicamadas.
Substratos de alto desempenho são projetados para oferecer excelente estabilidade dimensional, resistência térmica, resistência química e confiabilidade elétrica sob condições operacionais exigentes. Dependendo da aplicação, os substratos podem suportar tecnologias como estruturação a laser, litografia, galvanoplastia, ligação de fios, processos de revestimento e fabricação de semicondutores.
Os materiais de substrato modernos são amplamente utilizados em eletrônica, tecnologia de semicondutores, MEMS, sistemas de sensores, ambientes de salas limpas, tecnologias de interconexão e manufatura industrial avançada. Sua capacidade de viabilizar designs compactos, arquiteturas flexíveis, padronização de alta precisão e desempenho confiável a longo prazo os torna essenciais para aplicações eletrônicas e de microssistemas de próxima geração.
Com compatibilidade entre processos de fabricação avançados e projetos de sistemas multicamadas, os materiais de substrato desempenham um papel fundamental no desenvolvimento de tecnologias leves, eficientes e de alto desempenho para a indústria moderna.
Produtos de substrato
1: PEEK LDS Preto
Substrato de filme avançado para aplicações de estruturação direta a laser
O PEEK LDS Black é um substrato de filme avançado desenvolvido para aplicações de Estruturação Direta a Laser (LDS), oferecendo uma solução precisa e flexível para microssistemas e estruturas eletrônicas complexas. O material amplia as possibilidades de design para a produção de substratos de alto desempenho em ambientes industriais exigentes.
O substrato permite uma estruturação de alta precisão e suporta VIAs (Acesso Vertical de Interconexão) diretas, proporcionando maior flexibilidade de projeto e funcionalidade aprimorada em layouts eletrônicos compactos. Ele combina excelente qualidade de superfície, desempenho térmico e resistência química, tornando-o adequado para aplicações de fabricação avançada que exigem confiabilidade e estabilidade dimensional.
Projetado para fabricação contínua eficiente, o substrato suporta a produção rápida e econômica de estruturas flexíveis. Ao reduzir a necessidade de camadas de isolamento adicionais e minimizar a complexidade do processamento, o material possibilita uma fabricação mais eficiente em termos de recursos, em comparação com os métodos convencionais de fabricação de substratos. A compatibilidade com técnicas avançadas de processamento contribui ainda mais para a otimização da eficiência da produção e a redução do esforço de fabricação.
O substrato também favorece a fabricação ecologicamente consciente por meio de métodos de estruturação simplificados e características de material reciclável. É particularmente adequado para sistemas multicamadas, interconexões com estruturas profundas, aplicações de antenas de estampagem profunda e camadas integradas em sistemas de substrato adicionais.
Fatos
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Designação química
PEEK (poliéter-éter-cetona) -
Cor
preta -
Densidade
1,67 g/cm³
Principais características
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Capacidade de litografia
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PVD/CVD capaz
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Possibilidade de ligação por fio
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Galvanoplastia possível
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Adequado para processos de estruturação direta a laser
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Possibilidade de soldagem por refluxo
-
Retardante de chama inerente
-
Baixa absorção de umidade
Indústrias-alvo
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Tecnologia MEMS
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Tecnologia de sensores
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Tecnologia de semicondutores
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Eletrônica
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Tecnologia de interconexão
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Tecnologia de sala limpa
2: PEEK LDS Cinza
Substrato de filme avançado para aplicações de estruturação direta a laser
O PEEK LDS Grey é um substrato de filme avançado com capacidade LDS, desenvolvido para aplicações industriais flexíveis e de alta precisão que exigem estruturas complexas, desempenho confiável e maior flexibilidade de design. Esta variante de substrato cinza oferece as mesmas características de desempenho esperadas de substratos de filme LDS de alto desempenho, ao mesmo tempo que amplia as opções de materiais para aplicações técnicas especializadas.
O substrato oferece excelente estabilidade térmica, forte resistência química e alta qualidade de superfície, tornando-o adequado para ambientes de fabricação exigentes e aplicações eletrônicas de precisão. Sua formulação de material é biocompatível, o que o torna adequado para aplicações que requerem compatibilidade com ambientes médicos e de saúde.
Concebido como uma alternativa eficiente em termos de recursos às tecnologias convencionais de substrato de filme, o material suporta processos de fabricação eficientes e sustentáveis, mantendo ao mesmo tempo excelente estabilidade dimensional e desempenho a longo prazo em condições operacionais desafiadoras.
O substrato é compatível com tecnologias avançadas de processamento e estruturação, permitindo a produção precisa de sistemas multicamadas, conjuntos eletrônicos, sensores e outros componentes industriais de alto desempenho.
Fatos
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Designação química
PEEK (poliéter-éter-cetona) -
Cor
cinza -
Densidade
1,65 g/cm³
Principais características
-
Capacidade de litografia
-
PVD/CVD capaz
-
Possibilidade de ligação por fio
-
Galvanoplastia possível
-
Adequado para processos de estruturação direta a laser
-
Possibilidade de soldagem por refluxo
-
Retardante de chama inerente
-
Baixa absorção de umidade
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Formulação biocompatível
Indústrias-alvo
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Tecnologia MEMS
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Tecnologia de sensores
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Tecnologia de semicondutores
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Eletrônica
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Tecnologia de interconexão
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Tecnologia de sala limpa
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Tecnologia médica
3: PEEK LDS Preto
Substrato de wafer avançado à base de PEEK para aplicações em microssistemas
O PEEK LDS Black é um substrato avançado de 4 polegadas fabricado com material PEEK de alto desempenho e desenvolvido como uma alternativa aos materiais de substrato convencionais usados em microssistemas, eletrônica e tecnologias de sensores. O substrato de wafer combina excelentes propriedades térmicas, elétricas e mecânicas, tornando-o adequado para aplicações industriais exigentes e de engenharia de precisão.
Graças à sua baixa condutividade térmica, o substrato é altamente adequado para aplicações de sensores de temperatura, elementos de aquecimento e sistemas de gerenciamento térmico. Sua alta elasticidade também o torna ideal para aplicações que exigem sensibilidade à pressão e flexibilidade mecânica.
O substrato demonstra excelente resistência a ambientes agressivos, juntamente com alta rigidez dielétrica, permitindo um desempenho confiável em condições operacionais desafiadoras. Opções flexíveis de processamento, incluindo corte a laser, fresagem e furação, permitem fácil adaptação a requisitos específicos de aplicação e geometrias de componentes personalizadas.
O material permite fluxos de trabalho de fabricação otimizados, reduzindo a necessidade de camadas de isolamento adicionais. Também é compatível com processos convencionais de litografia e revestimento PVD, possibilitando a produção eficiente de microssistemas avançados e estruturas eletrônicas de precisão. As características de reciclagem do material e o processamento simplificado contribuem para uma fabricação mais eficiente em termos de recursos.
O substrato oferece excelente qualidade de superfície, com rugosidade variando de 20 a 50 nm e potencial para acabamentos ultrafinos abaixo de 10 nm utilizando métodos de processamento especializados. A planicidade varia de 50 a 100 µm em um diâmetro de 100 mm, enquanto as espessuras disponíveis variam de 0,9 mm a 1,5 mm. Com resistência à temperatura de até 250 °C e rigidez dielétrica de 17,5 kV/mm, o substrato é particularmente adequado para tecnologias de sensoriamento, aplicações de alta frequência e integração avançada de microssistemas.
Fatos
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Designação química
PEEK (poliéter-éter-cetona) -
Cor
preta -
Densidade
1,67 g/cm³
Principais características
-
Capacidade de litografia
-
PVD/CVD capaz
-
Possibilidade de ligação por fio
-
Galvanoplastia possível
-
Adequado para processos de estruturação direta a laser
-
Possibilidade de soldagem por refluxo
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Retardante de chama inerente
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Baixa absorção de umidade
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Alta rigidez dielétrica
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Baixa condutividade térmica
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Excelente qualidade de superfície
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Alta resistência química
Indústrias-alvo
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Tecnologia de semicondutores
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Tecnologia MEMS
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Tecnologia de sensores
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Eletrônica
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Tecnologia de interconexão
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Tecnologia de sala limpa
4: PEEK LDS Cinza
Substrato de wafer avançado à base de PEEK para aplicações em microssistemas
O PEEK LDS Grey é um substrato de wafer avançado desenvolvido para microssistemas, eletrônica e tecnologias de sensores, oferecendo as mesmas características de alto desempenho esperadas de materiais de substrato avançados à base de PEEK, ao mesmo tempo que amplia a flexibilidade de design por meio de uma variante de material cinza. O substrato suporta aplicações industriais exigentes que requerem precisão, estabilidade térmica e desempenho confiável a longo prazo.
O material combina excelentes propriedades térmicas, elétricas e mecânicas, tornando-o adequado para estruturas de microssistemas avançados, plataformas de sensores, ambientes semicondutores e aplicações eletrônicas de precisão. Sua formulação biocompatível também o torna adequado para aplicações que exigem compatibilidade com ambientes médicos e de saúde.
O substrato oferece excelente qualidade de superfície, forte resistência química, baixa absorção de umidade e desempenho estável em condições operacionais adversas. A compatibilidade com processos avançados de fabricação e estruturação permite a produção eficiente de componentes de precisão, sistemas multicamadas e conjuntos eletrônicos altamente funcionais.
Seu perfil de material de alto desempenho oferece flexibilidade em design, integração funcional e personalização para aplicações industriais e de microssistemas complexos.
Fatos
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Designação química
PEEK (poliéter-éter-cetona) -
Cor
cinza -
Densidade
1,65 g/cm³
Principais características
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Capacidade de litografia
-
PVD/CVD capaz
-
Possibilidade de ligação por fio
-
Galvanoplastia possível
-
Adequado para processos de estruturação direta a laser
-
Possibilidade de soldagem por refluxo
-
Retardante de chama inerente
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Baixa absorção de umidade
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Formulação biocompatível
Indústrias-alvo
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Tecnologia MEMS
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Tecnologia de sensores
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Tecnologia de semicondutores
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Eletrônica
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Tecnologia de interconexão
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Tecnologia de sala limpa
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Tecnologia médica
Façade Creations Plásticos: Substratos



















