Sustratos
Materiales avanzados para aplicaciones electrónicas e industriales de alta precisión
Los sustratos son materiales base especializados que se utilizan para soportar, conectar e integrar componentes electrónicos, mecánicos y funcionales en sistemas industriales avanzados. Constituyen la plataforma fundamental sobre la que se construyen estructuras conductoras, circuitos, sensores, recubrimientos y ensamblajes multicapa.
Los sustratos de alto rendimiento están diseñados para ofrecer una excelente estabilidad dimensional, resistencia térmica, resistencia química y fiabilidad eléctrica en condiciones de funcionamiento exigentes. Según la aplicación, los sustratos pueden ser compatibles con tecnologías como la estructuración láser, la litografía, la galvanoplastia, la unión de cables, los procesos de recubrimiento y la fabricación de semiconductores.
Los materiales de sustrato modernos se utilizan ampliamente en electrónica, tecnología de semiconductores, MEMS, sistemas de sensores, entornos de salas blancas, tecnologías de interconexión y fabricación industrial avanzada. Su capacidad para permitir diseños compactos, arquitecturas flexibles, patrones de alta precisión y un rendimiento fiable a largo plazo los convierte en elementos esenciales para las aplicaciones electrónicas y de microsistemas de próxima generación.
Gracias a su compatibilidad con procesos de fabricación avanzados y diseños de sistemas multicapa, los materiales de sustrato desempeñan un papel fundamental en el desarrollo de tecnologías ligeras, eficientes y de alto rendimiento para la industria moderna.
Productos de sustrato
1: PEEK LDS Negro
Sustrato de película avanzado para aplicaciones de estructuración directa por láser
PEEK LDS Black es un sustrato de película avanzado desarrollado para aplicaciones de estructuración directa por láser (LDS), que proporciona una solución precisa y flexible para microsistemas y estructuras electrónicas complejas. Este material amplía las posibilidades de diseño para la producción de sustratos de alto rendimiento en entornos industriales exigentes.
El sustrato permite una estructuración de alta precisión y admite vías (acceso vertical a interconexión) directas, lo que proporciona mayor flexibilidad de diseño y una funcionalidad mejorada en diseños electrónicos compactos. Combina una excelente calidad superficial, rendimiento térmico y resistencia química, lo que lo hace idóneo para aplicaciones de fabricación avanzada que requieren fiabilidad y estabilidad dimensional.
Diseñado para una fabricación eficiente rollo a rollo, este sustrato permite la producción rápida y rentable de estructuras flexibles. Al reducir la necesidad de capas de aislamiento adicionales y minimizar la complejidad del procesamiento, el material posibilita una fabricación más eficiente en el uso de recursos en comparación con los métodos convencionales de fabricación de sustratos. Su compatibilidad con técnicas de procesamiento avanzadas contribuye aún más a optimizar la eficiencia de la producción y a reducir el esfuerzo de fabricación.
El sustrato también favorece una fabricación respetuosa con el medio ambiente gracias a sus métodos de estructuración simplificados y a las características de sus materiales reciclables. Resulta especialmente adecuado para sistemas multicapa, interconectores con estructuras profundas, aplicaciones de antenas de gran profundidad y capas integradas en sistemas de sustrato adicionales.
Hechos
-
Designación química
PEEK (poliéter éter cetona) -
Color
negro -
Densidad
1,67 g/cm³
Características principales
-
Capaz de realizar litografía
-
Capaz de PVD/CVD
-
Posibilidad de realizar uniones de cables
-
Posibilidad de galvanoplastia
-
Adecuado para procesos de estructuración directa por láser
-
Posibilidad de soldadura por reflujo
-
Retardante de llama inherente
-
Baja absorción de humedad
Industrias objetivo
-
Tecnología MEMS
-
Tecnología de sensores
-
Tecnología de semiconductores
-
Electrónica
-
Tecnología de interposición
-
Tecnología de salas limpias
2: PEEK LDS Gris
Sustrato de película avanzado para aplicaciones de estructuración directa por láser
El PEEK LDS Grey es un sustrato de película avanzado con capacidad LDS, desarrollado para aplicaciones industriales flexibles y de alta precisión que requieren estructuras complejas, un rendimiento fiable y una mayor flexibilidad de diseño. Esta variante de sustrato gris ofrece las mismas características de rendimiento esenciales que se esperan de los sustratos de película LDS de alto rendimiento, a la vez que amplía las opciones de materiales para aplicaciones técnicas especializadas.
El sustrato ofrece una excelente estabilidad térmica, una fuerte resistencia química y una alta calidad superficial, lo que lo hace idóneo para entornos de fabricación exigentes y aplicaciones electrónicas de precisión. Su formulación es biocompatible, lo que garantiza su idoneidad para aplicaciones que requieren compatibilidad con entornos médicos y sanitarios.
Diseñado como una alternativa eficiente en el uso de recursos a las tecnologías convencionales de sustratos de película, este material permite procesos de fabricación eficientes y sostenibles, al tiempo que mantiene una excelente estabilidad dimensional y un rendimiento a largo plazo en condiciones operativas exigentes.
El sustrato es compatible con tecnologías avanzadas de procesamiento y estructuración, lo que permite la producción precisa de sistemas multicapa, conjuntos electrónicos, sensores y otros componentes industriales de alto rendimiento.
Hechos
-
Designación química
PEEK (poliéter éter cetona) -
Color
gris -
Densidad
1,65 g/cm³
Características principales
-
Capaz de realizar litografía
-
Capaz de PVD/CVD
-
Posibilidad de realizar uniones de cables
-
Posibilidad de galvanoplastia
-
Adecuado para procesos de estructuración directa por láser
-
Posibilidad de soldadura por reflujo
-
Retardante de llama inherente
-
Baja absorción de humedad
-
Formulación biocompatible
Industrias objetivo
-
Tecnología MEMS
-
Tecnología de sensores
-
Tecnología de semiconductores
-
Electrónica
-
Tecnología de interposición
-
Tecnología de salas limpias
-
Tecnología médica
3: PEEK LDS Negro
Sustrato de oblea avanzado a base de PEEK para aplicaciones de microsistemas
PEEK LDS Black es un sustrato avanzado de 4 pulgadas fabricado con material PEEK de alto rendimiento y desarrollado como alternativa a los sustratos convencionales utilizados en microsistemas, electrónica y tecnologías de sensores. Este sustrato tipo oblea combina excelentes propiedades térmicas, eléctricas y mecánicas, lo que lo hace idóneo para aplicaciones industriales y de ingeniería de precisión exigentes.
Gracias a su baja conductividad térmica, el sustrato es idóneo para aplicaciones de detección de temperatura, elementos calefactores y sistemas de gestión térmica. Su alta elasticidad también permite su uso en aplicaciones que requieren sensibilidad a la presión y flexibilidad mecánica.
El sustrato presenta una excelente resistencia a entornos agresivos, junto con una alta rigidez dieléctrica, lo que permite un rendimiento fiable en condiciones de funcionamiento exigentes. Las opciones de procesamiento flexibles, que incluyen corte láser, fresado y perforación, facilitan la adaptación a los requisitos específicos de cada aplicación y a geometrías de componentes personalizadas.
Este material optimiza los flujos de trabajo de fabricación al reducir la necesidad de capas de aislamiento adicionales. Además, es compatible con los procesos convencionales de litografía y recubrimiento PVD, lo que permite la producción eficiente de microsistemas avanzados y estructuras electrónicas de precisión. Sus características de reciclabilidad y su procesamiento simplificado contribuyen a una fabricación más eficiente en el uso de recursos.
El sustrato ofrece una excelente calidad superficial, con una rugosidad que oscila entre 20 y 50 nm y la posibilidad de obtener acabados ultrafinos inferiores a 10 nm mediante métodos de procesamiento especializados. La planitud varía entre 50 y 100 µm en un diámetro de 100 mm, mientras que los espesores disponibles van desde 0,9 mm hasta 1,5 mm. Con una resistencia a la temperatura de hasta 250 °C y una rigidez dieléctrica de 17,5 kV/mm, el sustrato es especialmente adecuado para tecnologías de detección, aplicaciones de alta frecuencia e integración de microsistemas avanzados.
Hechos
-
Designación química
PEEK (poliéter éter cetona) -
Color
negro -
Densidad
1,67 g/cm³
Características principales
-
Capaz de realizar litografía
-
Capaz de PVD/CVD
-
Posibilidad de realizar uniones de cables
-
Posibilidad de galvanoplastia
-
Adecuado para procesos de estructuración directa por láser
-
Posibilidad de soldadura por reflujo
-
Retardante de llama inherente
-
Baja absorción de humedad
-
Alta rigidez dieléctrica
-
Baja conductividad térmica
-
Excelente calidad superficial
-
Alta resistencia química
Industrias objetivo
-
Tecnología de semiconductores
-
Tecnología MEMS
-
Tecnología de sensores
-
Electrónica
-
Tecnología de interposición
-
Tecnología de salas limpias
4: PEEK LDS Gris
Sustrato de oblea avanzado a base de PEEK para aplicaciones de microsistemas
PEEK LDS Grey es un sustrato de oblea avanzado desarrollado para microsistemas, electrónica y tecnologías de sensores. Ofrece las mismas características de alto rendimiento que se esperan de los materiales de sustrato avanzados basados en PEEK, a la vez que amplía la flexibilidad de diseño mediante una variante de material gris. Este sustrato admite aplicaciones industriales exigentes que requieren precisión, estabilidad térmica y un rendimiento fiable a largo plazo.
Este material combina excelentes propiedades térmicas, eléctricas y mecánicas, lo que lo hace idóneo para estructuras de microsistemas avanzados, plataformas de sensores, entornos de semiconductores y aplicaciones electrónicas de precisión. Su formulación biocompatible también lo hace adecuado para aplicaciones que requieren compatibilidad con entornos médicos y sanitarios.
El sustrato ofrece una excelente calidad superficial, alta resistencia química, baja absorción de humedad y un rendimiento estable en condiciones de funcionamiento exigentes. Su compatibilidad con procesos avanzados de fabricación y estructuración permite la producción eficiente de componentes de precisión, sistemas multicapa y conjuntos electrónicos de alta funcionalidad.
Su perfil de material de alto rendimiento favorece la flexibilidad en el diseño, la integración funcional y la personalización para aplicaciones industriales y de microsistemas complejos.
Hechos
-
Designación química
PEEK (poliéter éter cetona) -
Color
gris -
Densidad
1,65 g/cm³
Características principales
-
Capaz de realizar litografía
-
Capaz de PVD/CVD
-
Posibilidad de realizar uniones de cables
-
Posibilidad de galvanoplastia
-
Adecuado para procesos de estructuración directa por láser
-
Posibilidad de soldadura por reflujo
-
Retardante de llama inherente
-
Baja absorción de humedad
-
Formulación biocompatible
Industrias objetivo
-
Tecnología MEMS
-
Tecnología de sensores
-
Tecnología de semiconductores
-
Electrónica
-
Tecnología de interposición
-
Tecnología de salas limpias
-
Tecnología médica
Plásticos para Fachadas: Sustratos



















